Pencirian pertumbuhan lapisan nano grafin di atas elektrod antara digit superkapasitor MEMS

Abstract

Superkapasitor MEMS khususnya dengan reka bentuk elektrod antara digit (IDE), telah menarik minat pada masa kini dalam bidang seperti bioMEMS, bioperubatan implan, peranti kuasa elektronik dan aplikasi berkuasa tinggi disebabkan kapasiti pengecasannya yang tinggi. Kajian ini membentangkan superkapasitor MEMS dengan lapisan nano grafin tumbuh di atas elektrod. Superkapasitor MEMS terdiri daripada silikon dioksida (SiO2), nikel, grafin, polipirol (Ppy) dan lapisan alkohol polivinil (PVA). Tumpuan diberikan kepada fabrikasi struktur lapisan nano grafin atas elektrod superkapasitor MEMS melalui beberapa proses seperti pemendapan wap kimia secara peningkatan plasma (PECVD), penyejatan alur e dan salutan pusing. Grafin tumbuh melalui proses PECVD selama 10 minit pada kuasa 40 Watt dan pada suhu antara 400°C dan 1000°C. Spektrum Raman menunjukkan puncak pada 1340 dan 1580 cm-1 mewakili jalur D dan G . Puncak 2D wujud dalam julat 2600 - 3000 cm-1. Nisbah bagi keamatan puncak 2D terhadap puncak G pada 1000°C adalah 0.43 menunjukkan kualiti yang baik bagi banyak lapisan grafin.